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制(zhi)藥實驗室全自動廢氣處理能(neng)耗(hao)低(di)：設備(bei)啟動，僅(jin)需15~30分鐘升溫(wen)至起燃溫(wen)度，耗(hao)能(neng)僅(jin)為見機功率(lv)，濃度較低(di)時自動補償。安全可靠：設備(bei)配有阻火除塵系(xi)統(tong)(tong)，防爆泄(xie)壓系(xi)統(tong)(tong)、超(chao)溫(wen)報(bao)警系(xi)統(tong)(tong)及先進自控(kong)系(xi)統(tong)(tong)。阻力(li)小，凈化(hua)率(lv)高：采(cai)用當今先進的貴金屬鈀(ba)、鉑浸漬的蜂窩(wo)狀陶瓷載體催化(hua)劑，比表(biao)面積大。余熱可回用：余熱可返回烘道，降低(di)原烘道中消耗(hao)功率(lv)，也可作其它(ta)方面的熱源。

制藥實驗室(shi)廢(fei)氣(qi)處(chu)理(li)(li)通(tong)常情(qing)況下，蓄(xu)熱(re)催化燃(ran)燒(shao)系統由三個(ge)蓄(xu)熱(re)室(shi)構成(cheng)，廢(fei)氣(qi)在PLC程(cheng)序的(de)控制下，循(xun)環執行以下的(de)操作(zuo)流(liu)程(cheng)：進入已蓄(xu)熱(re)的(de)蓄(xu)熱(re)室(shi)，使廢(fei)氣(qi)得到預熱(re)，然后進入燃(ran)燒(shao)室(shi)，處(chu)理(li)(li)的(de)廢(fei)氣(qi)經蓄(xu)熱(re)室(shi)放熱(re)后排放，一(yi)部分(fen)處(chu)理(li)(li)后的(de)氣(qi)體被引回到三室(shi)，吹掃其(qi)中殘留的(de)未處(chu)理(li)(li)廢(fei)氣(qi)。