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光氧(yang)等(deng)(deng)離(li)子(zi)一體(ti)機“低(di)溫等(deng)(deng)離(li)子(zi)體(ti)”技術(shu)是電子(zi)、化學(xue)、催化等(deng)(deng)綜合作用(yong)下的電化學(xue)過(guo)程，等(deng)(deng)離(li)子(zi)體(ti)在瞬(shun)間產生的強大(da)電場(chang)能量電離(li)、 裂解有害氣體(ti)的化學(xue)鍵能，從而破壞廢(fei)氣分子(zi)結(jie)構(gou)，達到凈化目(mu)的。運行(xing)過(guo)程無需(xu)添加任(ren)何添加劑，不(bu)產生廢(fei)水、廢(fei)渣，不(bu)會導(dao)致二次污染(ran)。

光氧等(deng)離(li)(li)子(zi)廢氣凈化一體化設備廢氣和(he)惡臭(chou)氣體經(jing)過等(deng)離(li)(li)子(zi)體電(dian)場區(qu)，在(zai)納(na)秒(miao)級(ji)時(shi)間(jian)范(fan)圍內流星雨狀的高(gao)能(neng)離(li)(li)子(zi)與介(jie)質內分(fen)子(zi)（原理）發生非彈性(xing)碰撞，等(deng)離(li)(li)子(zi)猛(meng)烈轟擊廢氣和(he)臭(chou)味等(deng)污(wu)染(ran)(ran)物(wu)分(fen)子(zi)，產生裂變分(fen)解(jie)反應，將(jiang)能(neng)量(liang)轉化成基態分(fen)子(zi)（原子(zi)）的內能(neng)，發生激發，離(li)(li)解(jie)、電(dian)離(li)(li)等(deng)一系列過程使污(wu)染(ran)(ran)介(jie)質處于活性(xing)狀態，污(wu)染(ran)(ran)介(jie)質在(zai)等(deng)離(li)(li)子(zi)體的作用下，產生高(gao)濃度、度、高(gao)能(neng)量(liang)的各種活性(xing)基、高(gao)能(neng)電(dian)子(zi)、高(gao)能(neng)離(li)(li)子(zi)等(deng)。

光氧(yang)等(deng)離子廢氣凈化一(yi)(yi)體機低溫等(deng)離子體廢氣處理(li)是一(yi)(yi)種干法凈化過程(cheng)，是一(yi)(yi)種全(quan)新的(de)凈化過程(cheng)，運行(xing)過程(cheng)無需添加任何添加劑，不產(chan)生(sheng)廢水、廢渣，不會導(dao)致二次污染。

廢(fei)氣(qi)(qi)凈化(hua)光氧等離子一體(ti)機“低溫等離子體(ti)”技術是(shi)電子、化(hua)學(xue)、催化(hua)等綜合作(zuo)用(yong)下的(de)(de)電化(hua)學(xue)過(guo)程，等離子體(ti)在(zai)瞬間產生的(de)(de)強(qiang)大電場能量電離、 裂解有害氣(qi)(qi)體(ti)的(de)(de)化(hua)學(xue)鍵能，從而(er)破壞廢(fei)氣(qi)(qi)分子結構，達到凈化(hua)目的(de)(de)。運行過(guo)程無需(xu)添(tian)加任何添(tian)加劑(ji)，不產生廢(fei)水(shui)、廢(fei)渣，不會導致二次污染。